曝光機是指通過開啟燈光發(fā)出UVA波長的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)的表面上的設(shè)備。被廣泛用于半導(dǎo)體，微電子，生物器件和納米科技領(lǐng)域中?，F(xiàn)在LED曝光機已開始取代傳統(tǒng)曝光機，LED曝光機相比于傳統(tǒng)曝光機的優(yōu)勢有哪些呢？

1、光線平行度：采用精密聚光和分光透鏡，平行光線角度控制在10度內(nèi)，無漫射和大角度反射光和透過光線。優(yōu)勢:阻焊成像解析度高，能做精密的BGA,阻焊橋等產(chǎn)品。

2、曝光臺面光強均勻度：光強分布非常均勻，臺面整體光強均勻度超過90%以上，臺面區(qū)間100%可用。優(yōu)勢：臺面任意區(qū)間都可曝光產(chǎn)品，產(chǎn)品四角和中間品質(zhì)一致性100%。

3、光強穩(wěn)定性：光源穩(wěn)定，使用壽命達到20000小時，光強變化極其微小，成像穩(wěn)定性不會出現(xiàn)周期性波動。優(yōu)勢：減少配件更換，降低維護成本。

4、阻焊成像精度高，近平行光曝光，能量尺控制在10-12格，可以深度固化，阻焊顯影無側(cè)蝕，顯影后阻焊開窗口垂直。優(yōu)勢：阻焊顯影無側(cè)蝕，表面處理如沉金、鍍金、沉錫、噴錫等無滲鍍、甩油等，合格率提高。

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