真空鍍膜是在真空條件下，對光學零件鍍膜的工藝過程，一種產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。真空鍍鋁膜的生產過程中可以使用光密度在線檢測儀、真空鍍膜在線測試儀來進行品質監(jiān)控。

光密度檢測儀也叫光密度計，檢測的原理有四種測定方式：
1：測量薄層斑點透射光強度的透射法，適用于可見光區(qū)，其主要缺點是吸著劑和玻璃板本身會有吸收，而且薄層厚度不均勻會引起基線不穩(wěn)，對測量的準確度有影響；
2：測量薄層斑點反射光強度的反射法，適用于紫外-可見光區(qū)，要求薄層表面十分平整；
3：同時測定透射光和反射光的透射-反射法，記錄兩種光信號值之和，這種方式較理想，基線平穩(wěn)，測量誤差小，靈敏度高；
4：如果化合物本身有熒光或經過適當處理后生成熒光化合物者也可用熒光測定法。
真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。
真空鍍膜光密度測試范圍就是線性范圍，光密度值在這個范圍內與待測試液的濃度成線性關系。由于真空鍍膜的厚度非常薄，所以必須通過光學性質來檢測其鍍膜厚度的均勻性。光密度在線檢測儀就是專門為真空鍍鋁膜而設計生產的。?